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顶空法同时测定液晶材料中4种有机溶剂残留
作者姓名:霍学兵  靳洁阳  刘方方  张鹏  韩锦伟
作者单位:阜阳欣奕华材料科技有限公司,安徽阜阳,236000;阜阳欣奕华材料科技有限公司,安徽阜阳,236000;阜阳欣奕华材料科技有限公司,安徽阜阳,236000;阜阳欣奕华材料科技有限公司,安徽阜阳,236000;阜阳欣奕华材料科技有限公司,安徽阜阳,236000
摘    要:

关 键 词:顶空气相色谱法  溶剂残留  液晶
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