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| 电子束蒸发与磁控溅射制备Al/PI复合薄膜的性能研究 | |
| 引用本文： | 余凤斌,夏祥华,朱德明,夏伟,冯立明.电子束蒸发与磁控溅射制备Al/PI复合薄膜的性能研究[J].中国材料进展,2008,27(6). |
| 作者姓名： | 余凤斌 夏祥华 朱德明 夏伟 冯立明 |
| 作者单位： | 1. 山东天诺光电材料有限公司,山东,济南,250101 2. 山东华光光电子有限公司,山东,济南,250101 3. 山东建筑大学,山东,济南,250101 |
| 基金项目： | 国防基础科研项目，济南市科技攻关项目 |
| 摘 要： | 利用磁控溅射法和电子束蒸发法在聚酰亚胺(PI)薄膜基底上沉积了铝功能膜.测试了两种方法薄膜的膜厚、附着力、反射率、折射率和电导率.结果表明,磁控溅射法制备的铝膜的综合性能较电子束蒸制备的铝膜的性能优越. |
| 关 键 词： | 电子束蒸发 磁控溅射 Al/PI膜 性能 |
Study on Performance of Al/PI Films Prepared by Electron Beam Evaporation and Magnetron Sputtering |
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| Authors: | Yu Fengbin Xia Xianghua Zhu Deming Xia Wei Feng Liming |
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