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化学镀Ni-W-P工艺及其应用
引用本文:曾为民,赵俊宏,马玉录. 化学镀Ni-W-P工艺及其应用[J]. 材料保护, 2007, 40(7): 36-39
作者姓名:曾为民  赵俊宏  马玉录
作者单位:华东理工大学化工机械研究所,上海,200237
摘    要:为了获得耐蚀性比化学镀Ni-P合金更加优异的Ni-W-P三元合金镀层,在实验室条件下,通过正交试验研究了镀液中硫酸镍、钨酸钠、次亚磷酸钠、乳酸和添加剂浓度对镀层沉积速度和镀层在60℃、5%(质量分数)硫酸溶液中腐蚀速率的影响,获得了较佳的工艺参数:20~25 g/L NiSO4·6H2O,30 g/LNa2WO4·2H2O,27~30 g/L NaH2PO2·H2O,100 g/L Na3C6H5O7,15 mL/L乳酸,30 mg/L添加剂.通过对Tafel曲线的比较,证明本工作所得到的Ni-W-P镀层耐蚀性能高于非晶态Ni-P镀层,EDS图谱表明镀层中P的质量分数为14.00%,而W为3.69%.化学镀Ni-W-P工艺在耐腐蚀空冷器制备上获得了成功应用.

关 键 词:化学镀Ni-W-P  正交试验  Tafel曲线  空冷器  耐腐蚀
文章编号:1001-1560(2007)07-0036-04
修稿时间:2007-01-27

The Process for and Application of Electroless Ni-W-P Coating
ZENG Wei-min,ZHAO Jun-hong,MA Yu-lu. The Process for and Application of Electroless Ni-W-P Coating[J]. Journal of Materials Protection, 2007, 40(7): 36-39
Authors:ZENG Wei-min  ZHAO Jun-hong  MA Yu-lu
Abstract:
Keywords:
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