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| V形槽的腐蚀及其应用 | |
| 作者姓名： | 孙彦卿 石广元 |
| 作者单位： | 辽宁大学物理系(孙彦卿)，辽宁大学物理系(石广元) |
| 摘 要： | 本文简要地回顾了腐蚀V形槽的几种方法。并以联氨(N_2H_4)腐蚀V形槽工艺为主,结合半导体硅的结构报告了腐蚀方法,及达到最佳化的条件。并指出了此工艺的应用。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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