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CrN/ZrN纳米多层膜的合成及其结构和性能的研究
引用本文:张晶晶,王明霞,杨瑾,刘谦祥,李德军. CrN/ZrN纳米多层膜的合成及其结构和性能的研究[J]. 真空科学与技术学报, 2006, 26(Z1): 101-104
作者姓名:张晶晶  王明霞  杨瑾  刘谦祥  李德军
作者单位:天津师范大学物理与电子信息学院,天津,300074
基金项目:天津市应用基础研究项目;国家自然科学基金
摘    要:利用非平衡直流磁控双靶溅射在不同的基底转速(4~11r/min)和不同反应气体流量下制备一系列的具有纳米周期的CrN/ZrN多层膜.利用X射线衍射,俄歇电子能谱,X射线光电子能谱表征了薄膜的成分和结构,利用纳米力学测试系统以及摩擦磨损仪测量了薄膜的机械性能和摩擦磨损性能,分析了基底的转速、反应气体的种类及流量对薄膜结构与机械性能和摩擦磨损性能的影响.结果表明在氮中混入适量氨气条件下合成的具有小纳米周期的多层膜,其硬度可达32 GPa,磨损率可低到0.3865×10-5mm3/Nm,明显优于单质薄膜.低角度XRD分析证明了薄膜的多层结构.

关 键 词:磁控溅射  多层膜
文章编号:1672-7126(2006)增-0101-04
修稿时间:2005-09-01

Growth and Characterization of CrN/ZrN Multilayers
Zhang Jingjing,Wang Mingxia,Yang Jin,Liu Qianxiang,Li Dejun. Growth and Characterization of CrN/ZrN Multilayers[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2006, 26(Z1): 101-104
Authors:Zhang Jingjing  Wang Mingxia  Yang Jin  Liu Qianxiang  Li Dejun
Abstract:
Keywords:CrN/ZrN
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