| 浅谈曲面直写式光刻工艺 |
| |
| 引用本文： | 甄万财,孙明睿. 浅谈曲面直写式光刻工艺[J]. 电子工业专用设备, 2015, 0(6) |
| |
| 作者姓名： | 甄万财 孙明睿 |
| |
| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,100176 |
| |
| 摘 要： | 针对一些曲面栅网器件的加工工艺,从实验装置、光刻原理、光刻工艺及参数要求等方面进行了分析,为后续深入开展曲面直写式光刻工艺打下了基础.
|
| 关 键 词： | 半导体设备 曲面 直写式 光刻 |
Simply Talking about Direct Writing Lithography Process on Curved Surface |
| |
| ZHEN Wancai,SUN Mingrui. Simply Talking about Direct Writing Lithography Process on Curved Surface[J]. Equipment for Electronic Products Marufacturing, 2015, 0(6) |
| |
| Authors: | ZHEN Wancai SUN Mingrui |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Sem iconductordevices Curved surface Directwriting Lithography |
|
|
