硅烷偶联剂改性纳米SiO_2的分散性能 |
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引用本文: | 刘彦生,王红燕,杨建文.硅烷偶联剂改性纳米SiO_2的分散性能[J].材料开发与应用,2014(3). |
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作者姓名: | 刘彦生 王红燕 杨建文 |
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作者单位: | 桂林理工大学化学与生物工程学院;西北矿冶研究院; |
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摘 要: | 用硅烷偶联剂KH-570对纳米SiO2进行表面改性,用红外光谱仪(IR)、热重(TA)、Zeta电位、SEM、性能测试等对改性纳米SiO2进行了研究,结果表明,偶联剂KH-570与SiO2化学结合形成了Si—O—Si键,其附着量约5.8%,结合溶剂水约10.35%;改性纳米SiO2在乙醇介质中的Zeta电位由-14.9 mV减小到-41.1mV,体系稳定性可达60 h以上;改性SiO2用作光固化牙科复合树脂的填料,分散性显著提高,其维氏硬度、压缩强度、弹性弯曲强度等性能提高10%以上。
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关 键 词: | 纳米SiO 硅烷偶联剂 表面改性 分散性能 |
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