双极晶体管电流增益与发射区杂质浓度关系的温度特性 |
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引用本文: | 郑茳,魏同立.双极晶体管电流增益与发射区杂质浓度关系的温度特性[J].微电子学与计算机,1991,8(2):39-41. |
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作者姓名: | 郑茳 魏同立 |
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摘 要: | 本文从理论和实验两方面对积极型晶体管电流增益HFE与发射区杂质浓度NE的关系的温度特性进行了探讨。研究结果表明,HFE与NE的相关程度与温度有关,在常温下,HFE随NE的增加而增加;当温度升高时,HFE将随NE的增加而更剧烈地增加。
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关 键 词: | 双极晶体管 电流增益 发射区 杂质浓度 温度特性 |
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