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| 光学光刻2003年将达150nm | |
| 摘 要： | 光学光刻２００３年将达１５０ｎｍ过去的报导一致认为，１２０ｎｍ是光学光刻的极限，２５６ＭＤＲＡＭ需要的２５０ｎｍ常规分辨率将在１９９７年实现，但对于能否达到适用于１ＧＤＲＡＭ的１５０ｎｍ特征尺寸尚不清楚。现在此问题已经明朗，极限仍是１２０ｎｍ，而利用... |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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