离子硫氮共渗工艺 |
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作者姓名: | (归几)岛庆享 缪铁堡 |
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作者单位: | 上海淬火厂((归几)岛庆享) |
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摘 要: | 专利申请的范围:1.在低压容器内,用辉光放电而使工件进行表面处理的方法中,离子硫氮共渗是以NH_3和 H_2S 混合气的辉光放电处理为特征的。2.在 NH_3、H_2S 气内掺入 H_2、Ar、He一种或多种的混合气中进行辉光处理也是离子硫氮共渗的一个特征。3.在第1项中,NH_3量为:95%≤NH_3%<100%(vt%)。4.在第1项或第2项中 H_2S 量为:0.01~5%(vt%)。
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