离子硫氮共渗工艺

专利申请的范围:1.在低压容器内,用辉光放电而使工件进行表面处理的方法中,离子硫氮共渗是以NH_3和 H_2S 混合气的辉光放电处理为特征的。2.在 NH_3、H_2S 气内掺入 H_2、Ar、He一种或多种的混合气中进行辉光处理也是离子硫氮共渗的一个特征。3.在第1项中,NH_3量为:95%≤NH_3%<100%(vt%)。4.在第1项或第2项中 H_2S 量为:0.01～5%(vt%)。