| 掺氮二氧化钛薄膜的介质阻挡放电化学气相沉积及其结构性能研究 |
| |
| 引用本文： | 李喆,张溪文,韩高荣. 掺氮二氧化钛薄膜的介质阻挡放电化学气相沉积及其结构性能研究[J]. 真空科学与技术学报, 2008, 28(4) |
| |
| 作者姓名： | 李喆 张溪文 韩高荣 |
| |
| 作者单位： | 浙江大学,硅材料国家重点实验室,杭州,310027 |
| |
| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划 , 浙江省科技计划项目纳米技术攻关及示范应用专项 , 高等学校科技创新工程重大项目培育资金项目 |
| |
| 摘 要： | 采用介质阻挡放电化学气相沉积（DBD-CVD）法,以四异丙醇钛（TTIP）作为钛源,氨气（NH3）和笑气（N2O）分别作为氮源的气相反应先驱体,成功制备了不同掺杂量的掺氮二氧化钛（TiO2）薄膜。SEM、XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究表明：所制得的掺氮二氧化钛薄膜均为锐钛矿相,氮源的引入对TiO2薄膜晶粒成长、晶体取向、表面形貌影响很大,并促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。且NH3掺氮效果整体好于N2O。
|
| 关 键 词： | 介质阻挡放电化学气相沉积 掺氮TiO2薄膜 光催化性 亲水性 |
Microstructures and Properties of N-Doped TiO2 Films Grown by Dielectric Barrier Discharge Chemical Vapor Deposition |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
