| 蓝宝石和硅衬底上氮化硅薄膜的制备和性能研究 |
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| 引用本文： | 宋文燕,崔虎,苏勋家,刘正堂. 蓝宝石和硅衬底上氮化硅薄膜的制备和性能研究[J]. 材料工程, 2006, 0(2): 38-40 |
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| 作者姓名： | 宋文燕 崔虎 苏勋家 刘正堂 |
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| 作者单位： | 第二炮兵工程学院,西安,710025;西北工业大学,材料学院,西安,710072 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控反应溅射法,以高纯Si为靶材,高纯N2气为反应气体,在蓝宝石和硅衬底上制备了氮化硅薄膜.并对Si3N4薄膜的沉积速率、成分、结构及红外光学性能等进行了研究.实验结果表明,沉积薄膜中Si和N的比接近3∶4,形成了Si3N4化合物,呈非晶态结构.制备的Si3N4薄膜的硬度明显高于蓝宝石衬底的硬度,且与蓝宝石衬底结合牢固,可提供良好的保护性能.
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| 关 键 词： | 磁控反应溅射 蓝宝石 氮化硅薄膜 性能 |
| 文章编号： | 1001-4381(2006)02-0038-03 |
| 收稿时间： | 2005-06-05 |
| 修稿时间： | 2005-11-07 |
Preparation and Properties of Si3N4 Films on Sapphire and Si Substrates |
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| SONG Wen-yan,CUI Hu,SU Xun-jia,LIU Zheng-tang. Preparation and Properties of Si3N4 Films on Sapphire and Si Substrates[J]. Journal of Materials Engineering, 2006, 0(2): 38-40 |
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| Authors: | SONG Wen-yan CUI Hu SU Xun-jia LIU Zheng-tang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron reactive sputtering sapphire Si3N4 films property |
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