邻重氮醌化合物与正型光刻胶期刊界 All Journals 搜尽天下杂志传播学术成果专业期刊搜索期刊信息化学术搜索

邻重氮醌化合物与正型光刻胶

作者姓名：	刘鹏

作者单位：	黄岩县有机化工厂

摘要：	光刻胶是微电子工业中半导体器件和集成电路制作的关键材料,它作为抗蚀涂层在微细加工技术中获得广泛的应用。光刻胶按其感光机理和成像作用的不同可分为正型和负型两大类。所谓正型光刻胶即指在曝光过
本文献已被 CNKI 等数据库收录！