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| 等离子体增强磁控溅射离子镀TiN涂层的研究 | |
| 引用本文： | 王玉魁,韩会民.等离子体增强磁控溅射离子镀TiN涂层的研究[J].真空,1996(1):24-29. |
| 作者姓名： | 王玉魁 韩会民 |
| 作者单位： | 大连理工大学材料工程系 |
| 基金项目： | 三束材料改性国家重点实验室资助 |
| 摘 要： | 利用等离子体增强磁控溅射离子镀（ＰＥＭＳＩＰ）沉积ＴｉＮ涂层，研究涂层的组织结构和性能。随着氮气分压增加涂层相组成朝着富氮相及其含量增加的方向发展。氮气分压对涂层硬度的影响是由膜层相组成变化引起的，由Ｔｉ２Ｎ和ＴｉＮ两相组成的涂层比ＴＩＮ单相涂层的硬度高。由Ｔｉ２Ｎ和ＴｉＮ组成的刀具涂层使切削力下降。 |
| 关 键 词： | 等离子体增强，磁控溅射，TiN涂层，相组成 |
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