磁控溅射Ti—N膜沉积的空间分布研究

磁控溅射镀膜设备可以广泛用于镀膜Ｔｉ－Ｎ膜，从实用观点看，磁控溅射工艺中的溅射速率的溅射原子空间分布是广泛关心的，沉积在试样表面的溅射原子被认为除了与等离子体的参数有关，还与靶－工件的几何分布有关系。本文研究了真空室中Ｔｉ－Ｎ膜沉积的空间分。在研究中发值得注意的是溅射量与沉积量作为两个不同的概念严格区分。