纳米硅薄膜界面结构的微观特征 |
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引用本文: | 何宇亮,褚一鸣,王中怀,刘湘娜,白春礼.纳米硅薄膜界面结构的微观特征[J].半导体学报,1994,15(1):71-74. |
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作者姓名: | 何宇亮 褚一鸣 王中怀 刘湘娜 白春礼 |
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作者单位: | 北京航空航天大学非晶态物理研究室,中国科学院北京电子显微镜开放实验室,中国科学院化学研究所STM实验室,南京大学物理系及固体微结构实验室 |
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摘 要: | 对使用等离子体增强化学汽相沉积法(PECVD)制备的纳米硅薄膜(nc-Si:H),使用HREM及STM技术观测了其显微结构,给出大量的界面结构图象.首次获得有关晶粒及界面区中原子的分布情况.使我们认识到nc-Si:H膜中界面区内的硅原子仍然是具有短程有序性并不是完全无序的.
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关 键 词: | 硅薄膜 界面结构 特征 纳米硅薄膜 |
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