| 低温化学气相沉积SiC涂层显微结构及晶体结构研究 |
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| 引用本文： | 刘荣军,张长瑞,周新贵,曹英斌,刘晓阳,张彬.低温化学气相沉积SiC涂层显微结构及晶体结构研究[J].硅酸盐学报,2003,31(11):1107-1111. |
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| 作者姓名： | 刘荣军 张长瑞 周新贵 曹英斌 刘晓阳 张彬 |
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| 作者单位： | 国防科技大学航天与材料工程学院国防科技重点实验室,长沙,410073 |
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| 基金项目： | 国防预研重点项目资助(41312011002) |
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| 摘 要： | 在CH_3SiCl_3-H_2体系中,采用化学气相沉积法(CVD)在1000～1300℃制备了SiC涂层。研究了SiC涂层的沉积速率和温度之间的关系,发现低温化学气相沉积SiC为动力学控制过程,反应的表观活化能为85～156 kJ/mol。SiC涂层的外观颜色及涂层表面的显微结构随沉积温度变化而呈现规律的变化:当沉积温度<1150℃时,SiC涂层的外观颜色为银白色,涂层表面致密、光滑;当温度≥1150℃时,SiC涂层外观颜色逐渐变暗,涂层表面变得疏松、粗糙。利用XRD分析了不同沉积温度下SiC涂层的晶体结构,随着温度的升高,SiC涂层的结晶由不完整趋向于完整;当沉积温度≥1150℃,SiC涂层的XRD谱图中除了β-SiC外还出现了少量α-SiC。
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| 关 键 词： | 碳化硅涂层 沉积温度 化学气相沉积 显微结构 晶体结构 |
| 文章编号： | 0454-5648(2003)11-1107-05 |
| 修稿时间： | 2003年4月4日 |
MICROSTRUCTURE AND CRYSTAL STUCTURE OF SiC COATINGS DEPOSITED AT LOW TEMPERATURE |
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| LIU Rongjun,ZHANG Changrui,ZHOU Xingui,CAO Yingbin,LIU Xiaoyang,ZHANG Bin.MICROSTRUCTURE AND CRYSTAL STUCTURE OF SiC COATINGS DEPOSITED AT LOW TEMPERATURE[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2003,31(11):1107-1111. |
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| Authors: | LIU Rongjun ZHANG Changrui ZHOU Xingui CAO Yingbin LIU Xiaoyang ZHANG Bin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | silicon carbide coatings deposition temperature chemical vapor deposition microstructures crystal structures |
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