基于平面结构的正交可控电抗器磁通特性分析方法 |
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引用本文: | 魏晓霞,胡晓光,刘杰.基于平面结构的正交可控电抗器磁通特性分析方法[J].电子器件,2009,32(4):828-832. |
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作者姓名: | 魏晓霞 胡晓光 刘杰 |
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作者单位: | 1. 北京航空航天大学,自动化科学与电气工程学院,北京,100191 2. 黑龙江省电力公司,电通自动化有限公司,哈尔滨,150001 |
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摘 要: | 正交可控电抗器的三维磁路模型结构较为复杂,适用于分析正交电抗器某些特性,但无法直观表达该电抗器的磁路结构.文中提出一种平面结构用于分析正交可控电抗器磁通特性,并通过仿真软件FEMM对正交可控电抗器的平面结构,进行磁通分布情况和磁路结构的分析,该方法便于正交可控电抗器的磁通特性分析,通过磁通和磁势的仿真数据结果对比,可以进一步得到正交可控电抗器的磁路模型和磁动势方程.
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关 键 词: | 正交可控电抗器 磁通 平面分析 |
Analysis of the Magnetic Flow of the Orthogonal Controllable Reactor based on Plane Structure |
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Abstract: | |
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Keywords: | Orthogonal controllable reactor magnetic flow Plane structure analysis |
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