| 利用总积分散射仪研究不同清洗技术下的基片表面粗糙度 |
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| 引用本文： | 侯海虹,沈健,张大伟,范正修. 利用总积分散射仪研究不同清洗技术下的基片表面粗糙度[J]. 中国激光, 2009, 36(6). DOI: 10.3788/CJL20093606.1559 |
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| 作者姓名： | 侯海虹 沈健 张大伟 范正修 |
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| 作者单位： | 1. 常熟理工学院物理系,江苏,常熟,215500
2. 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800 |
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| 基金项目： | 江苏省高校自然科学研究项目，江苏省高校青蓝工程资助课题 |
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| 摘 要： | 为了探讨不同清洗工艺对基片表面微观粗糙度的影响,利用总积分散射(TIS)仪分别对不同条件下超声清洗的K9玻璃基片,End-hall离子源清洗的K9玻璃基片和Kaufmann离子源清洗的熔石英基片的表面均方根(RMS)粗糙度进行了系统表征.结果表明,K9玻璃基片经不同条件下的超声波清洗后,由于清洗过程中表面受到损伤,其RMS粗糙度均有所增加;而对于End-hall离子源和Kaufmann离子源清洗的基片,其表面RMS粗糙度的变化受清洗过程中离子束流、清洗时间和离子束能量等实验参量的影响较为明显,选择合适的实验参量可以降低基片表面粗糙度.
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| 关 键 词： | 薄膜 基片 表面粗糙度 清洗 散射仪 |
Study on Surface Roughness of Substrates under Different Cleaning Techniques by Total Integrated Scatter |
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| Hou Haihong,Shen Jian,Zhang Dawei,Fan Zhengxiu. Study on Surface Roughness of Substrates under Different Cleaning Techniques by Total Integrated Scatter[J]. Chinese Journal of Lasers, 2009, 36(6). DOI: 10.3788/CJL20093606.1559 |
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| Authors: | Hou Haihong Shen Jian Zhang Dawei Fan Zhengxiu |
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