| 不同靶材制备ZrW_2O_8薄膜的对比研究 |
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| 引用本文： | 刘红飞,程晓农,张志萍.不同靶材制备ZrW_2O_8薄膜的对比研究[J].真空科学与技术学报,2008,28(6). |
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| 作者姓名： | 刘红飞 程晓农 张志萍 |
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| 作者单位： | 江苏大学材料科学与工程学院,镇江,212013 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目
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江苏省高校自然科学重大基础研究项目
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江苏大学博士创新基金
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| 摘 要： | 分别采用摩尔比n(WO3):n(ZrO2)=2.8:1复合陶瓷靶材、纯ZrW208陶瓷靶材以及WO3和ZrO2双靶,以射频磁控溅射法在石英基片上沉积制备ZrW2O8薄膜.利用x射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)研究了退火温度对采用不同靶材沉积制备薄膜的相组成和表面形貌的影响;用划痕仪、表面粗糙轮廓仪测量薄膜与基片之间的结合力和薄膜厚度.试验结果表明:采用不同靶材磁控溅射制备的薄膜均为非晶态,经过不同温度退火后,不同靶材制备的薄膜的相组成和表面形貌有所不同,但在高温1200℃热处理3 min后均得到立方相ZrW2O8薄膜,其中采用WO3和ZrO2双靶交替磁控溅射制备的立方相ZrW2O8薄膜纯度最高,致密度好,且薄膜与基片之间结合力良好.
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| 关 键 词： | 钨酸锆 薄膜 磁控溅射 负热膨胀 |
Growth and Characteristics of ZrW2O8 Films by RF Magnetron Sputtering of Different Ceramic Composite Target |
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| Liu Hongfei,Cheng Xiaonong,Zhang Zhiping.Growth and Characteristics of ZrW2O8 Films by RF Magnetron Sputtering of Different Ceramic Composite Target[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2008,28(6). |
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| Authors: | Liu Hongfei Cheng Xiaonong Zhang Zhiping |
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