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| 镀膜技术应用简介 | |
| 作者姓名： | 廖燕南 叶粳 |
| 作者单位： | 南光机器厂，南光机器厂 |
| 摘 要： | 在真空中淀积金属膜和介电质膜是真空技术的重要应用之一。这种真空淀积技术叫做“PVD”方法(物理汽相淀积法)。PVD方法中,最初采用的是热蒸发,其后是采用各种离子镀复,目前正在积极探讨高速溅射方法。 PVD方法的应用领域很广(表1)。现对它的主要应用简述如下: |
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