|
|||||
|
|
| 半导体制造中的电子显微分析 | |
| 引用本文： | 谢锋,刘剑霜,陈一,胡刚.半导体制造中的电子显微分析[J].集成电路应用,2003(2):44-45,49. |
| 作者姓名： | 谢锋 刘剑霜 陈一 胡刚 |
| 作者单位： | 复旦大学材料系200433 |
| 摘 要： | 集成电路的特征尺寸越来越小，电子显微分析在微电子制造中成为不可缺少、不可替代的重要分析手段。本文根据扫描电子显微镜（SEM）及透射电子显微镜（TEM）在实际分析中的特长和局限，主要就仪器分辨率与结果的精确度的问题，讨论如何将两种分析技术有机地结合起来，扬长避短，取得最佳效果。 |
| 关 键 词： | 半导体制造 电子显微分析 扫描电子显微镜 透射电子显微镜 分辨率 精确度 SEM TEM |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |