半导体制造中的电子显微分析 |
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引用本文: | 谢锋,刘剑霜,陈一,胡刚.半导体制造中的电子显微分析[J].集成电路应用,2003(2):44-45,49. |
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作者姓名: | 谢锋 刘剑霜 陈一 胡刚 |
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作者单位: | 复旦大学材料系200433 |
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摘 要: | 集成电路的特征尺寸越来越小,电子显微分析在微电子制造中成为不可缺少、不可替代的重要分析手段。本文根据扫描电子显微镜(SEM)及透射电子显微镜(TEM)在实际分析中的特长和局限,主要就仪器分辨率与结果的精确度的问题,讨论如何将两种分析技术有机地结合起来,扬长避短,取得最佳效果。
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关 键 词: | 半导体制造 电子显微分析 扫描电子显微镜 透射电子显微镜 分辨率 精确度 SEM TEM |
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