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单栅和双栅多晶硅薄膜晶体管的二维器件仿真
引用本文:邓婉玲,黄君凯. 单栅和双栅多晶硅薄膜晶体管的二维器件仿真[J]. 光电子技术, 2011, 31(3)
作者姓名:邓婉玲  黄君凯
作者单位:暨南大学信息科学技术学院电子工程系,广州,510630
摘    要:二维器件仿真是揭示半导体器件物理机理的有效途径.首先利用二维器件仿真工具构建单栅和双栅多晶硅薄膜晶体管(TFT),并完整地考虑晶界陷阱态的分布规律,即指数分布的带尾态和禁带中央高斯分布的深能态.同时,改变晶界陷阱密度、多晶硅薄膜厚度、温度等条件,以及考虑翘曲(kink)效应,仿真单栅和双栅器件的电流-电压(I-V)特性,分析物理规律,建立对多晶硅TFT器件物理特性的进一步理解.

关 键 词:多晶硅薄膜晶体管  二维器件仿真  陷阱态密度

Two-dimensional Simulation of Single-gate and Double-gate Polysilicon Thin Film Transistors
Deng Wanling,Huang Junkai. Two-dimensional Simulation of Single-gate and Double-gate Polysilicon Thin Film Transistors[J]. Optoelectronic Technology, 2011, 31(3)
Authors:Deng Wanling  Huang Junkai
Abstract:
Keywords:
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