|
|||||
|
|
| 利用射频磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO∶Zr透明导电薄膜 | |
| 引用本文： | 刘汉法,张化福,类成新,袁玉珍,袁长坤.利用射频磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO∶Zr透明导电薄膜[J].液晶与显示,2009,24(2). |
| 作者姓名： | 刘汉法 张化福 类成新 袁玉珍 袁长坤 |
| 作者单位： | 山东理工大学,物理与光电信息技术学院,山东,淄博,255049 |
| 摘 要： | 利用射频磁控溅射法首次在室温水冷柔性衬底 PET上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO∶Zr)透明导电薄膜.X射线衍射和扫描电子显微镜表明,ZnO∶Zr薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有平行于衬底方向的择优取向.实验获得ZnO∶Zr薄膜的最小电阻率为1.55×10-3 Ω·cm.实验制备的ZnO∶Zr薄膜具有良好的附着性能,其可见光区平均透过率超过90%. |
| 关 键 词： | ZnO∶Zr薄膜 柔性衬底 磁控溅射 透明导电薄膜 ZnO∶Zr films |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |