| 退火处理对脉冲激光沉积制备ZnS薄膜的影响 |
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| 引用本文： | 纠智先,李强,孙金战.退火处理对脉冲激光沉积制备ZnS薄膜的影响[J].武汉工业学院学报,2008,27(4). |
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| 作者姓名： | 纠智先 李强 孙金战 |
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| 作者单位： | 1. 武汉工业学院,数理科学系,湖北,武汉,430023
2. 河南省上蔡县第一高级中学,河南,驻马店,463800 |
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| 摘 要： | 利用射频辅助脉冲激光沉积技术,研究了退火处理对制备ZnS薄膜的影响.利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对制备样品的结构、形貌特性进行了表征.结果表明:退火处理更有利于ZnS薄膜的发光.
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| 关 键 词： | 脉冲激光沉积 ZnS薄膜 退火 |
Influence of annealing on ZnS thin films by PLD |
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| JIU Zhi-xian,LI Qiang,SUN Jin-zhan.Influence of annealing on ZnS thin films by PLD[J].Journal of Wuhan Polytechnic University,2008,27(4). |
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| Authors: | JIU Zhi-xian LI Qiang SUN Jin-zhan |
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