| 中频对靶反应磁控溅射Al2O3、TiO2、ZrO2功能薄膜的特性研究 |
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| 引用本文： | 贾军伟,潘文霞,黄河激.中频对靶反应磁控溅射Al2O3、TiO2、ZrO2功能薄膜的特性研究[J].新技术新工艺,2008(8). |
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| 作者姓名： | 贾军伟 潘文霞 黄河激 |
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| 作者单位： | 中国科学院力学研究所,工程科学部,北京,100190 |
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| 摘 要： | 利用中频对靶磁控溅射技术,分别制备出厚度低于5 μm、表面光滑的TiO2、ZrO2、Al2O3 3种功能薄膜.研究了不同工艺条件下薄膜的成膜速率和表面形貌,用四探针法测量了材料的薄膜电阻,并表征了膜层材料在大气压热等离子射流急速加热条件下的抗热冲击特性.
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| 关 键 词： | 功能薄膜 磁控溅射 薄膜电阻 |
Characteristics Study of Al2O3,TiO2 and ZrO2 Films Deposited by Medium-Frequency Magnetron Sputtering |
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| JIA Junwei,PAN Wenxia,HANG Heji.Characteristics Study of Al2O3,TiO2 and ZrO2 Films Deposited by Medium-Frequency Magnetron Sputtering[J].New Technology & New Process,2008(8). |
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| Authors: | JIA Junwei PAN Wenxia HANG Heji |
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