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纳米晶Ba(Zr0.2Ti0.8)O3薄膜的外延生长与介电特性
引用本文:杨中服,;唐新桂.纳米晶Ba(Zr0.2Ti0.8)O3薄膜的外延生长与介电特性[J].广东工学院学报,2008(1):11-14.
作者姓名:杨中服  ;唐新桂
作者单位:[1]广东工业大学物理与光电工程学院,广东广州510006
基金项目:广东省自然科学基金资助项目(05001825)
摘    要:用脉冲激光沉积工艺在半导体(001)SrTiO3:ω(Nb)=1.0%单晶基片上,外延生长出Ba(Zr0.2Ti0.8)O3(简称BZT)介电薄膜.在650℃原位退火10min,薄膜为(001)外延生长的晶粒.薄膜的晶化特征与表面形貌用薄膜X-ray衍射仪和原子力显微镜测量完成.BZT薄膜(002)峰的半峰宽只有0.72°,说明薄膜晶化良好;薄膜的平均晶粒为90nm,表面均方根粗糙度为4.3nm,说明薄膜表面平整.在室温、100kHz和500kV/cm条件下,BZT的最大介电常数和调谐百分率分别达到317和65%.

关 键 词:锆钛酸钡薄膜  脉冲激光沉积  外延生长  介电调谐特性
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