| 微波等离子CVD低温沉积金刚石膜及其表征 |
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| 引用本文： | 王琳,王永明,刘桂珍,周建. 微波等离子CVD低温沉积金刚石膜及其表征[J]. 武汉理工大学学报, 2007, 29(4): 49-52 |
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| 作者姓名： | 王琳 王永明 刘桂珍 周建 |
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| 作者单位： | 1. 武汉理工大学信息工程学院,武汉,430070;武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070
2. 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070 |
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| 基金项目： | 教育部科学技术研究项目;湖北省自然科学基金 |
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| 摘 要： | 采用CH4／Ar偈气源系统，以Si（111）为基片在微波等离子CVD系统中通过工艺的优化在350℃沉积了金刚石膜。研究了不同的基片预处理工艺、微波功率对金刚石结构的影响，用XRD、SEM等测试方法进行了表征，XRD测试结果表明金刚石膜中仍存在缺陷和杂质，SEM测试结果表明金刚石膜由200nm的球状颗粒组成，存在二次成核现象。
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| 关 键 词： | 金刚石膜 低温 氩气 |
| 文章编号： | 1671-4431(2007)04-0049-03 |
| 修稿时间： | 2007-01-08 |
Low Temperature Depositing Diamond Films in Microwave Plasma CVD Method and Its Characterization |
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| WANG Lin,WANG Yong-ming,LIU Gui-zhen,ZHOU Jian. Low Temperature Depositing Diamond Films in Microwave Plasma CVD Method and Its Characterization[J]. Journal of Wuhan University of Technology, 2007, 29(4): 49-52 |
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| Authors: | WANG Lin WANG Yong-ming LIU Gui-zhen ZHOU Jian |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | MPCVD |
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