2×2多模干涉光开关的设计与制作 |
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作者姓名: | 戚伟 肖铎 庞文尧 刘玮 |
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作者单位: | 浙江大学城市学院信息与电气工程学院,杭州,310015 |
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基金项目: | 浙江省公益性技术应用研究计划项目,浙江大学城市学院教师科研基金项目,杭州市通信与信息系统重中之重学科资助。 |
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摘 要: | 以多模干涉耦合器为主体,通过载流子注入效应所引起的折射率改变来调整二重像之间的相位差,当折射率下降所引起的相位改变达到π相位时完成开关功能。在AlGaAs/GaAs/AlGaAs外延材料上,利用两步湿法腐蚀工艺,实际制作了2×2光开关并进行了测试。测试结果表明,工作在1.55μm波段,当注入电流达到160mA时,完成了开关功能。
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关 键 词: | 集成光学 光开关 载流子注入 多模干涉 砷化镓 |
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