首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

离子注入对CuxS薄膜的影响
引用本文:屈晓声,李德杰. 离子注入对CuxS薄膜的影响[J]. 功能材料, 2000, 31(5): 556-557
作者姓名:屈晓声  李德杰
作者单位:清华大学电子工程系,北京,100084
摘    要:讨论了CuxS薄膜经氮离子注入后对薄膜的特性影响,铜硫化合物薄膜是经两次蒸发制备在玻璃上。实验发现氮离子束注入引起了CuxS薄膜中的铜与硫成分的改变,明显观察到样品中的铜对硫化的值随注入了子束强度的增加而变大。经过透射光谱的分析对比证实了确有新的CuxS状态出现。

关 键 词:CuxS薄膜 离子注入 相变 透射率
文章编号:1001-9731(2000)05-0556-02
修稿时间:1999-06-01

Effect of Ions Beam Implantation on CuxS Thin Films
QU Xiaosheng,LI Dejie. Effect of Ions Beam Implantation on CuxS Thin Films[J]. Journal of Functional Materials, 2000, 31(5): 556-557
Authors:QU Xiaosheng  LI Dejie
Affiliation:QU Xiaosheng ,LI Dejie (Department of Electronic Engineering,Tsinghua University,Beijing,100084,China)
Abstract:TheimplantationtechniquehasbeenintroducedtoCuxSthinfilmspreparedbytwiceevaporationdeposition .NitrogenionsbeamcauseavariationofcopperandsulfurcompositionintheCuxSfilms .Itisshowedthattheradioofcoppertosulfurinthesampleisenhanced withintensionofenteringtheCuxSfilms .Thecomparisonofopticaltransmissionbetweenoriginalandimplantedsampledemonstratesa newphasetoemergy .
Keywords:CuxSthinfilms  ionimplantation  phasetransposition  transmissivity
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号