快速多层CVD工艺制取高性能Nb_3Sn超导带 |
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引用本文: | 彭获田,吴裕生,齐志伟,陈继平,陈国堂,罗兴华,彭秋云,龙香云.快速多层CVD工艺制取高性能Nb_3Sn超导带[J].材料研究学报,1987(4). |
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作者姓名: | 彭获田 吴裕生 齐志伟 陈继平 陈国堂 罗兴华 彭秋云 龙香云 |
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作者单位: | 冶金部长沙矿冶研究院
(彭获田,吴裕生,齐志伟,陈继平,陈国堂,罗兴华,彭秋云),冶金部长沙矿冶研究院(龙香云) |
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摘 要: | 快速多层 CVD 法制备 Nb_3Sn 带是对慢速单层 CVD 法的重要改进,不但带速(生产率)能提高几倍至十几倍,而且载流能力亦能成倍地提高。
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