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基于双向光斑重叠率调控的耦合激光抛光碳化硅陶瓷的表面质量研究
引用本文:马桂英,陈晓晓,陈涛,张文武.基于双向光斑重叠率调控的耦合激光抛光碳化硅陶瓷的表面质量研究[J].中国激光,2023(16):186-197.
作者姓名:马桂英  陈晓晓  陈涛  张文武
作者单位:1. 宁波大学机械工程与力学学院;2. 中国科学院宁波材料技术与工程研究所浙江省航空发动机极端制造技术研究重点实验室;3. 中国科学院大学宁波材料工程学院;4. 江西理工大学机电工程学院
基金项目:浙江省自然科学基金(LY20E050004);;宁波市自然科学基金重点项目(2022J291);;浙江省重点研发计划(2020C01036);
摘    要:采用多光束耦合纳秒激光对SiC陶瓷进行抛光试验研究,研究了耦合激光的双向光斑重叠率(δ)和能量密度(ED)对抛光表面质量的影响。使用激光共聚焦显微镜、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪以及拉曼光谱仪等仪器观测表征了SiC陶瓷抛光前后的表面形貌、表面粗糙度、元素分布以及物相变化等。结果表明:随着δ和ED的增加,激光抛光表面出现重铸层,重铸层的拉曼光谱曲线含有Si的特征峰;当耦合激光的δ为75%、ED为4.254 J/cm2、扫描次数为2时,抛光表面粗糙度(Ra)降至0.73μm;当δ和ED过大时,抛光表面易在孔隙附近出现微裂纹,并向周围延伸。

关 键 词:激光技术  激光抛光  多光束耦合  双向光斑重叠率  重铸层  SiC陶瓷
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