| C含量对电弧离子镀TiAlC_xN_(1-x)(x=0,0.18,0.41,0.49,0.69)薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 杨立军,张泽辉,李 林,张 勇. C含量对电弧离子镀TiAlC_xN_(1-x)(x=0,0.18,0.41,0.49,0.69)薄膜性能的影响[J]. 稀有金属材料与工程, 2015, 44(6): 1455-1458 |
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| 作者姓名： | 杨立军 张泽辉 李 林 张 勇 |
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| 作者单位： | 陕西科技大学，陕西 西安 710021 |
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| 基金项目： | 陕西省教育厅产业化中试项目资助 (2011TG24) |
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| 摘 要： | 在GCr15轴承钢基体上,利用多弧离子镀技术低温(175℃)沉积TiAl CN涂层。利用SEM、EPMA、XRD、附着力测试仪、纳米压痕仪和UMT-2高温摩擦磨损测试仪研究薄膜性质。结果表明,涂层表面光滑平整、均匀致密且无明显孔洞。涂层表面存在一定数量的液滴颗粒,薄膜厚度约为2μm。在涂层中,发现了晶体结构为fcc-Ti N结构,薄膜的晶粒大小为10~30 nm;随着薄膜中C元素的加入,XRD谱中(Ti0.5,Al0.5)N峰出现了宽化;在Ti Al N中引入C,附着力下降,随着涂层中C含量的增加,薄膜中的Al和Ti比例未发生明显变化,附着力略微增加,但硬度和弹性模量先增加后减小,摩擦系数一直减小。
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| 关 键 词： | 电弧离子镀；TiAlCN；附着力；摩擦系数；硬度 |
| 收稿时间： | 2014-06-12 |
Effect of C Content on Properties of TiAlCxN1-x (x=0, 0.18, 0.41, 0.49, 0.69) Films Deposited by Arc Ion Plating |
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| Yang Lijun,Zhang Zehui,Li Lin and Zhang Yong. Effect of C Content on Properties of TiAlCxN1-x (x=0, 0.18, 0.41, 0.49, 0.69) Films Deposited by Arc Ion Plating[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2015, 44(6): 1455-1458 |
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| Authors: | Yang Lijun Zhang Zehui Li Lin Zhang Yong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | vacuum arc ion plating TiAlCN films adhesion friction coefficient hardness |
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