论光刻机的曝光控制系统 |
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引用本文: | 宋健,尚秀红.论光刻机的曝光控制系统[J].电子工业专用设备,1989(3):8-11. |
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作者姓名: | 宋健 尚秀红 |
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作者单位: | 机械电子部第13研究所
(宋健),机械电子部第13研究所(尚秀红) |
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摘 要: | <正> 概述 光刻机是生产半导体器件的重要工艺设备之一,它可分为工作台对准系统和光学曝光系统两大部分。对于一台性能优良的光刻机光学曝光系统起着不容忽视的作用。近代发展起来的光刻机在曝光系统上采用了一系列新技术,例如在光学设计上采用复眼透镜组来减少光学衍射效应,提高光的均匀性;在幅照光源上采用恒光强控制(如Rarlsu-ss,uv系列光刻机);对曝光时间采用积分曝光(如Canon PLF-500系列光刻机)等。本文仅从电学角度来论述光刻机的曝光控制系统,并对某些专题进行较详细地分析,以便读者可有一深入和系统了解。
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关 键 词: | 半导体工艺 光刻机 曝光 控制 |
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