β—FeSi2和β—Fe(C,Si)2薄膜的电子显微及X射线衍射研究 |
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作者姓名: | 李晓娜 聂冬 等 |
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作者单位: | 三束国家重点联合实验室大连理工大学分部,大连理工大学材料工程系,大连116023 |
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摘 要: | 本利用X射线衍射和透射电子显微镜对离子注入合成的β-Fe(C,Si)2薄膜进行了研究,对掺杂C前后样品的对比研究表明,选择C作为掺杂元素,能够得到界面平直,厚度均一的高质量β相薄膜,晶粒得到细化,β-FeSi2层稳定性提高,因此从微结构角度考虑,引入C离子对于提高β-FeSi2薄膜的质量是很有益处的,进一步进行光学吸收表征,发现C离子的引入对β层的Eg^d值没有产生明显影响,所以综合来说C离子的引入有利于得到高质量的β-FeSi2薄膜,用掠入射X射线衍射和Celref程序精确地测量薄膜的晶格常数,当C/Fe的剂量比为0.5%时,尽管C的原子半径比Si的小,β相晶格却膨胀了,这可能是由于间隙固溶的原因,进一步增加掺杂量到一定的程度时,单胞体积会缩小,这是由于形成了置换固溶体,碳置换了β单胞中的部分硅。
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关 键 词: | X射线衍射 β-FeSi2 半导体薄膜 金属硅化物 离子注入 透射电子显微镜 |
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