| 电子束和离子注入处理鸡冠花种子对当代(Mo)植株生长发育影响的初步研究 |
| |
| 引用本文： | WANG Dan,王丹,任少雄,李卫锋,苏乾治,苏军.电子束和离子注入处理鸡冠花种子对当代(Mo)植株生长发育影响的初步研究[J].辐射研究与辐射工艺学报,2006,24(3):188-192. |
| |
| 作者姓名： | WANG Dan 王丹 任少雄 李卫锋 苏乾治 苏军 |
| |
| 作者单位： | 西南科技大学生命科学与工程学院,绵阳,621002;四川久远科技股份有限公司辐照中心,绵阳,621000 |
| |
| 基金项目： | 中国工程物理研究院基金 |
| |
| 摘 要： | 利用电子束和氮离子、氢离子注入处理普通鸡冠花干种子,试验结果表明,两种诱变处理均能显著抑制鸡冠花植株的生长、发育,并能有效地诱发花性状变异,变异株率可达0.5%—2%。电子束处理鸡冠花干种子的半致死剂量(LD50)经测定为1.2kGy左右;离子注入处理的半致死剂量随注入离子种类不同而不同,N 注入的半致死剂量(LD50)为1.6×1017/cm2,H 注入的半致死剂量应低于1.6×1016/cm2。鸡冠花干种子电子束处理的适宜剂量为1.5kGy左右,离子注入处理的适宜方法是N 1.6×1016/cm2。同时鸡冠花对高剂量辐照较不敏感,是一种耐强辐照的资源。
|
| 关 键 词： | 鸡冠花 电子束 离子注入 干种子 生长发育 |
| 收稿时间： | 2005-10-25 |
| 修稿时间： | 2006-01-05 |
Plant growth of E-beam irradiated or ion implanted seeds of ornamental Celosia |
| |
| WANG Dan.Plant growth of E-beam irradiated or ion implanted seeds of ornamental Celosia[J].Journal of Radiation Research and Radiation Processing,2006,24(3):188-192. |
| |
| Authors: | WANG Dan |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Celosia Electron beam Ion implantation Dry seeds Growth and development |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
