| 三维Ni亚微米柱阵列的制备及微结构研究 |
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| 引用本文： | 陈昶,张伟,陈建,刘春海,曾宪光,杨瑞嵩,王龙,蒲国.三维Ni亚微米柱阵列的制备及微结构研究[J].功能材料,2016(4):4125-4128. |
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| 作者姓名： | 陈昶 张伟 陈建 刘春海 曾宪光 杨瑞嵩 王龙 蒲国 |
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| 作者单位： | 四川理工学院材料科学与工程学院材料腐蚀与防护四川省重点实验室;四川理工学院分析测试中心 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(51201111);材料腐蚀与防护四川省重点实验室开放基金资助项目(2015CL04);四川理工学院研究生创新基金资助项目(y2014017);四川理工学院人才引进基金资助项目(2011RC05);四川理工学院培育资助项目(2015PY01);四川理工学院大学生创新创业训练计划资助项目(CX20141020);四川省教育厅资助项目(12ZB285);自贡市科技局资助项目(2013X05) |
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| 摘 要： | 利用磁控溅射法在阳极氧化铝(AAO)模板上制备了Ni亚微米柱阵列,研究了不同退火温度对Ni亚微米柱阵列结构稳定性的影响。通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等对不同退火温度下制备的Ni亚微米柱阵列的晶体结构以及表面形貌进行了表征。结果表明,磁控溅射法制备的Ni亚微米柱阵列具有多晶的面心立方结构,排列规则、粗细均匀,其直径约为400nm。经400℃退火后,开始形成Al1.1Ni0.9和AlNi金属间化合物。500℃退火后,出现空心Ni亚微米柱,且Ni亚微米柱体积膨胀变粗。600℃退火后,Ni亚微米柱部分脱落。
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| 关 键 词： | AAO模板 磁控溅射 Ni亚微米柱阵列 晶体结构 表面形貌 |
Preparation and microstructure of the three-dimensional Ni submicron columns array |
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| CHEN Chang;ZHANG Wei;CHEN Jian;LIU Chunhai;ZENG Xianguang;YANG Ruisong;WANG Long;PU Guo.Preparation and microstructure of the three-dimensional Ni submicron columns array[J].Journal of Functional Materials,2016(4):4125-4128. |
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| Authors: | CHEN Chang;ZHANG Wei;CHEN Jian;LIU Chunhai;ZENG Xianguang;YANG Ruisong;WANG Long;PU Guo |
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| Affiliation: | CHEN Chang;ZHANG Wei;CHEN Jian;LIU Chunhai;ZENG Xianguang;YANG Ruisong;WANG Long;PU Guo;Material Corrosion and Protection Key Laboratory of Sichuan Province,College of Materials Science and Engineering,Sichuan University of Science and Engineering;Analytical and Testing Center,Sichuan University of Science and Engineering; |
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