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| 离子注入技术的新动态 | |
| 引用本文： | 陈文周.离子注入技术的新动态[J].功能材料,1978(3). |
| 作者姓名： | 陈文周 |
| 摘 要： | 近年来,世界各国由于电子技术的发展,对新型材料及新型器件提出了新的要求。离子注入技术是当前发展电子材料及器件中的关键手段之一,各先进工业国家均采用该技术发展新型器件及新型材料。如所周知,离子注入技术具有掺杂均匀性好、不受表面氧化层的影响、注入量可精确控制、横向扩散小等优点。更重要的是,从原理上离子注入到各种材料,可不受化学 |
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