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| 等离子体氢处理对Si—SiO2结构的影响 | |
| 引用本文： | 蔡跃明,吕世骥.等离子体氢处理对Si—SiO2结构的影响[J].半导体技术,1990(4):45-46. |
| 作者姓名： | 蔡跃明 吕世骥 |
| 作者单位： | 南京通信工程学院理化室 (蔡跃明)，南京大学微电子中心(吕世骥) |
| 摘 要： | 本文研究了等离子体氢处理对Si-SiO_2结构的影响。结果表明,Si-SiO_2结构经等离子体氢处理后,其界面特性变差。 |
| 关 键 词： | Si－SiO2 等离子体氢 结构 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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