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煅烧温度对In-TiO2纳米材料光催化性能的影响
引用本文:张文杰,陈金垒,王宏,何红波.煅烧温度对In-TiO2纳米材料光催化性能的影响[J].材料研究学报,2012(6):561-566.
作者姓名:张文杰  陈金垒  王宏  何红波
作者单位:沈阳理工大学环境与化学工程学院;中国科学院沈阳应用生态研究所
基金项目:国家自然科学基金41271251;辽宁省科学技术计划2010229002资助项目~~
摘    要:采用溶胶-凝胶法合成In掺杂TiO2纳米材料,用XRD、FT-IR以及N2吸附-脱附等手段对其表征,研究了热处理条件对其结构和光催化性能的影响。结果表明,在不同煅烧温度制备的材料均由锐钛矿型TiO2组成,且其表面形貌变化不大;随着煅烧温度的提高TiO2晶粒尺寸逐渐增大,催化剂的比表面积逐渐降低,孔径逐渐增大,在400℃煅烧制得的3%In-TiO2的比表面积为94.4 m2/g,平均孔径为10.3 nm,具有最强的光催化能力,经光照30 min后对甲基橙的光催化降解率为43.1%.

关 键 词:无机非金属材料  热处理  In-TiO2  光催化  甲基橙
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