煅烧温度对In-TiO2纳米材料光催化性能的影响 |
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引用本文: | 张文杰,陈金垒,王宏,何红波.煅烧温度对In-TiO2纳米材料光催化性能的影响[J].材料研究学报,2012(6):561-566. |
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作者姓名: | 张文杰 陈金垒 王宏 何红波 |
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作者单位: | 沈阳理工大学环境与化学工程学院;中国科学院沈阳应用生态研究所 |
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基金项目: | 国家自然科学基金41271251;辽宁省科学技术计划2010229002资助项目~~ |
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摘 要: | 采用溶胶-凝胶法合成In掺杂TiO2纳米材料,用XRD、FT-IR以及N2吸附-脱附等手段对其表征,研究了热处理条件对其结构和光催化性能的影响。结果表明,在不同煅烧温度制备的材料均由锐钛矿型TiO2组成,且其表面形貌变化不大;随着煅烧温度的提高TiO2晶粒尺寸逐渐增大,催化剂的比表面积逐渐降低,孔径逐渐增大,在400℃煅烧制得的3%In-TiO2的比表面积为94.4 m2/g,平均孔径为10.3 nm,具有最强的光催化能力,经光照30 min后对甲基橙的光催化降解率为43.1%.
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关 键 词: | 无机非金属材料 热处理 In-TiO2 光催化 甲基橙 |
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