| 激光辅助化学气相沉积金刚石薄膜实验研究 |
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| 引用本文： | 任德明,胡孝勇.激光辅助化学气相沉积金刚石薄膜实验研究[J].光电子．激光,1998,9(6):446-449. |
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| 作者姓名： | 任德明 胡孝勇 |
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| 作者单位： | 哈尔滨工业大学光电子技术研究所 |
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| 摘 要： | 本文采用激光辅助化学气相沉积法合成了厚度为１５μｍ的金刚石薄膜。实验结果表明，以丙酮为碳源气体，并用ＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）准分子解离，Ｈ２秀灯线进行予先解离，当选择和中种实验参数，可获得高质量的金刚石薄膜。本文这讨论了衬底温度以及灯线温度等实验参数对薄膜生长速率与薄膜质量的影响。
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| 关 键 词： | 金刚石薄膜 激光 化学气相沉积 LACVD |
Synthesis of Diamond Films by Laser assisted Chemical Vapour Deposition |
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| Ren Deming,Hu Xiaoyong,Liu Fengmei,Zhao Jingshan,Wang Nannan,Ma Zuguang.Synthesis of Diamond Films by Laser assisted Chemical Vapour Deposition[J].Journal of Optoelectronics·laser,1998,9(6):446-449. |
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| Authors: | Ren Deming Hu Xiaoyong Liu Fengmei Zhao Jingshan Wang Nannan Ma Zuguang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | diamond film laser CVD |
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