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镍封工艺参数对铬镀层微孔密度及耐蚀性的影响
引用本文:韩生,缪叔婷,郝利峰. 镍封工艺参数对铬镀层微孔密度及耐蚀性的影响[J]. 电镀与涂饰, 2012, 31(4): 13-16
作者姓名:韩生  缪叔婷  郝利峰
作者单位:1. 上海应用技术学院新能源材料研究室,上海,200235
2. 上海化工应用研究所,浙江湖州,313000
基金项目:国家自然科学基金(20976105);上海市教委科技创新重点项目(11ZZ179);上海市教委重点学科建设(J51503);上海市教委科研创新项目(09YZ387);上海市科学技术委员会课题(09QT1400600)
摘    要:对比研究了分别以自制N001和市售DN-618作添加剂时,温度、pH、电流密度等镍封工艺参数对铬镀层微孔密度的影响,并研究了镍封添加剂种类对铬镀层耐蚀性的影响。以自制N001作添加剂时,镍封的最佳工艺参数为:镍封液温度50~60°C,pH=3.8~4.2,电流密度4A/dm2,铬镀层厚度0.3~0.5μm。在此条件下所得铬镀层的微孔密度约为1.1×105个/cm2。保护等级为9级时,铬镀层耐铜加速乙酸盐雾腐蚀的时间达48h。

关 键 词:镍封  微孔密度  铬镀层  耐蚀性

Effects of nickel sealing process parameters on micropore density and corrosion resistance of chromium coating
HAN Sheng , MIAO Shu-ting , HAO Li-feng. Effects of nickel sealing process parameters on micropore density and corrosion resistance of chromium coating[J]. Electroplating & Finishing, 2012, 31(4): 13-16
Authors:HAN Sheng    MIAO Shu-ting    HAO Li-feng
Affiliation:New Energy Materials Laboratory,Shanghai Institute of Technology,Shanghai 200235,China
Abstract:
Keywords:
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