| 光学自由曲面化学磁性研磨抛光的表面粗糙度试验 |
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| 引用本文： | 邱腾雄,丘永亮. 光学自由曲面化学磁性研磨抛光的表面粗糙度试验[J]. 工具技术, 2016, 0(12): 78-81. DOI: 10.3969/j.issn.1000-7008.2016.12.018 |
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| 作者姓名： | 邱腾雄 丘永亮 |
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| 作者单位： | 1. 广东工贸职业技术学院;2. 广东工贸职业技术学院;广东工业大学 |
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| 摘 要： | 针对自由曲面光学玻璃研磨抛光存在的问题,提出通过数控技术结合化学磁性研磨技术来实现自由曲面光学玻璃的研磨抛光。应用正交试验设计对化学磁性研磨试验的4个因素进行研究,最终获得各个因素对于工件表面粗糙度影响的主次顺序,并确定其最优组合为:研磨时间60min,磁感应强度0.8T,研磨间隙1.0mm,磁极转速为3000r/min。
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| 关 键 词： | 光学玻璃 自由曲面 化学磁性研磨 磁感应强度 |
Research on Surface Roughness of Optical Free Surface by Chemical Magnetic Abrasive Finishing |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | optical glass free surface chemical magnetic abrasive finishing magnetic flux density |
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