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| 纳米尺度氧化铪薄膜膜厚标准物质的研制 | |
| 引用本文： | 高慧芳,任玲玲.纳米尺度氧化铪薄膜膜厚标准物质的研制[J].计量技术,2021(1):61-65,78. |
| 作者姓名： | 高慧芳 任玲玲 |
| 摘 要： | 研制了氧化铪(HfO2)层厚度名义值分别为1nm、5nm、10nm的3种氧化铪薄膜膜厚标准物质,采用溯源至SI长度和角度基准的纳米薄膜厚度校准装置为标准物质候选物定值.研究建立了具有普适性的四层拟合模型,基于该模型对不同厚度的氧化铪薄膜的测量曲线进行了拟合,这是拟合结果准确可靠的基础.氧化铪薄膜膜厚标准物质具有良好的均... |
| 关 键 词： | 薄膜膜厚 氧化铪 掠入射X射线反射法 标准物质 |
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