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| （英）硫代硫酸钠浓度对电沉积制备铜锌锡硫硒薄膜性质的影响 | |
| 作者姓名： | 葛杰 江锦春 胡古今 张小龙 左少华 杨立红 马建华 曹蒙 杨平雄 禇君浩 |
| 作者单位： | 华东师范大学 电子工程系,上海太阳能电池研究与发展中心,中国科学院上海技术物理研究所，红外物理国际重点实验室,华东师范大学 电子工程系,上海太阳能电池研究与发展中心,上海太阳能电池研究与发展中心,上海太阳能电池研究与发展中心,中国科学院上海技术物理研究所，红外物理国家重点实验室,华东师范大学 电子工程系,华东师范大学 电子工程系 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金项目（面上项目，重点项目，重大项目） |
| 摘 要： | 采用后硒化Cu-Zn-Sn-S电沉积预制层的方法制备了铜锌锡硫硒薄膜，其中Cu-Zn-Sn-S预制层是通过含有不同浓度的硫代硫酸钠电解液电沉积而成的.实验发现，硒化前后薄膜的性质与硫代硫酸钠浓度密切相关.SEM，EDS，XRD，Raman和透射光谱分析表明，当硫代硫酸钠的浓度为5 mM时，沉积的薄膜形貌平整，晶粒明显，组分贫锌，具有单一的铜锌锡硫硒结构，且其带隙为1.11 eV; 在浓度高于5 mM下沉积的薄膜形貌粗糙并产生杂相硒化锡; 在浓度低于5 mM下沉积的薄膜组分严重贫锌并生成大量的Cu2SnSe3. |
| 关 键 词： | 共电沉积；硫代硫酸钠浓度；硒化；铜锌锡硫硒薄膜 |
| 收稿时间： | 2012-08-24 |
| 修稿时间： | 2013-04-02 |
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