| 不同退火条件对磁控溅射CdS薄膜性能的影响 |
| |
| 引用本文： | 张传军,邬云骅,曹鸿,赵守仁,王善力,褚君浩. 不同退火条件对磁控溅射CdS薄膜性能的影响[J]. 红外与毫米波学报, 2013, 32(4): 298-303 |
| |
| 作者姓名： | 张传军 邬云骅 曹鸿 赵守仁 王善力 褚君浩 |
| |
| 作者单位： | 中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室,上海太阳能电池研究与发展中心,中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室,上海太阳能电池研究与发展中心,上海太阳能电池研究与发展中心,中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室 |
| |
| 基金项目： | 中国科学院知识创新工程重要方向项目(KGCX2-YW-384)；上海市2012年度“科技创新行动计划”节能减排领域项目(12dz1201000);中国科学院知识创新项目 |
| |
| 摘 要： | 采用磁控溅射法，在衬底温度300 ℃制备CdS薄膜，并选取370 ℃、380 ℃、390℃三个温度退火，获得在干燥空气和CdCl2源+干燥空气两种气氛下退火的CdS薄膜.通过研究热处理前后CdS薄膜的形貌、结构和光学性能表明，CdS薄膜在干燥空气中退火，晶粒度、表面粗糙度和可见光透过率变化不明显，光学带隙随退火温度的升高而增大; 在CdCl2源+干燥空气中退火，随退火温度的升高发生明显的再结晶和晶粒长大，表面粗糙度增大，可见光透过率和光学带隙随退火温度的升高而减小.分析得出: 上述性能的改变是由于不同的退火条件对CdS薄膜的再结晶温度和带尾态掺杂浓度改变的结果.
|
| 关 键 词： | CdS薄膜；磁控溅射；热退火；再结晶；带尾态 |
| 收稿时间： | 2013-01-23 |
| 修稿时间： | 2013-04-02 |
Effect of different annealing conditions on the properties of CdS thin films deposited by magnetron sputtering |
| |
| ZHANG Chuan-Jun,WU Yun-Hu,CAO Hong,ZHAO Shou-Ren,WANG Shan-Li and CHU Jun-Hao. Effect of different annealing conditions on the properties of CdS thin films deposited by magnetron sputtering[J]. Journal of Infrared and Millimeter Waves, 2013, 32(4): 298-303 |
| |
| Authors: | ZHANG Chuan-Jun WU Yun-Hu CAO Hong ZHAO Shou-Ren WANG Shan-Li CHU Jun-Hao |
| |
| Affiliation: | National Laboratory for Infrared Physics,Shanghai Institute of Technical Physics,Chinese Academy of Science,Shanghai Center for Photovoltaics,National Laboratory for Infrared Physics,Shanghai Institute of Technical Physics,Chinese Academy of Science,Shanghai Center for Photovoltaics,Shanghai Center for Photovoltaics,National Laboratory for Infrared Physics,Shanghai Institute of Technical Physics,Chinese Academy of Science |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
|
| 点击此处可从《红外与毫米波学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《红外与毫米波学报》下载全文 |
|
