| 微波ECR CVD法制备a-Si:H膜的氢含量研究 |
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| 引用本文： | 李瀛,刘毅,阴生毅,胡跃辉,宋雪梅,邓金祥,朱秀红,陈光华.微波ECR CVD法制备a-Si:H膜的氢含量研究[J].功能材料,2004,35(Z1):3148-3151. |
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| 作者姓名： | 李瀛 刘毅 阴生毅 胡跃辉 宋雪梅 邓金祥 朱秀红 陈光华 |
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| 作者单位： | 北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划973资助项目(G2000028201-1) |
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| 摘 要： | 应用微波电子回旋共振化学气相沉积(MWECR CVD)方法,在较高速率下沉积了a-SiH薄膜,用FTIR红外谱仪研究a-SiH薄膜的结构特性与衬底温度、氢稀释比、光学带隙的对应关系,并对2000cm-1附近的特征吸收峰用高斯函数进行了拟合分析,获得了沉积高质量a-SiH薄膜的最佳工艺条件.
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| 关 键 词： | 氢化非晶硅 MWECR CVD 氢含量 |
| 文章编号： | 1001-9731(2004)增刊-3148-04 |
| 修稿时间： | 2004年3月20日 |
The study on hydrogen content of a-Si:H thin film synthesized by microwave ECR CVD method |
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| LI Ying,LIU Yi,YIN Sheng-yi,HU Yue-hui,SONG Xue-mei,DENG Jin-xiang,ZHU Xiu-hong,CHEN Guang-hua.The study on hydrogen content of a-Si:H thin film synthesized by microwave ECR CVD method[J].Journal of Functional Materials,2004,35(Z1):3148-3151. |
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| Authors: | LI Ying LIU Yi YIN Sheng-yi HU Yue-hui SONG Xue-mei DENG Jin-xiang ZHU Xiu-hong CHEN Guang-hua |
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