首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

磁控溅射法制备BST铁电薄膜的实验研究
引用本文:章天金,何军,张柏顺,潘瑞琨,江娟,马志军. 磁控溅射法制备BST铁电薄膜的实验研究[J]. 压电与声光, 2007, 29(1): 62-64,67
作者姓名:章天金  何军  张柏顺  潘瑞琨  江娟  马志军
作者单位:湖北大学,物理学与电子技术学院,湖北武汉,430062
摘    要:采用射频磁控溅射法在Si和Pt/TiOx/SiO2/Si衬底上沉积了(Ba0.65Sr0.35)TiO3铁电薄膜,研究了BST铁电薄膜微观结构和介电性能。实验结果表明:衬底温度在550℃,工作气压为2.0 Pa的溅射条件下沉积的BST薄膜,经750℃退火处理30 min后,形成了完整的钙钛矿相;与Si衬底相比,在Pt衬底上制备的BST薄膜晶粒更均匀、表面平整无裂纹。在室温、频率为100 kHz条件下薄膜的介电常数ε=353.8,介电损耗tanδ=0.012 8。介电温谱结果表明制备的(Ba0.65Sr0.35)TiO3铁电薄膜居里温度在5.0℃左右。

关 键 词:RF磁控溅射  (Ba0.65Sr0.35)TiO3薄膜  介电常数  居里温度
文章编号:1004-2474(2007)01-0062-03
修稿时间:2005-09-14

Study on(Ba0.65Sr0.35)TiO3 Ferroelectric Thin Film Prepared by RF Magnetron Sputtering
ZHANG Tian-jin,HE Jun,ZHANG Bai-shun,PAN Rui-kun,JIANG Juan,MA Zhi-jun. Study on(Ba0.65Sr0.35)TiO3 Ferroelectric Thin Film Prepared by RF Magnetron Sputtering[J]. Piezoelectrics & Acoustooptics, 2007, 29(1): 62-64,67
Authors:ZHANG Tian-jin  HE Jun  ZHANG Bai-shun  PAN Rui-kun  JIANG Juan  MA Zhi-jun
Affiliation:School of Physics and Electronic Technology , Hubei University, Wuhan 430062,China
Abstract:
Keywords:RF magnetron sputtering  (Ba0.65Sr0.35)TiO3 thin film  dielectric constant  Curie temperature
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号