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| 三氯化砷流速对外延生长砷化镓性质的影响 | |
| 引用本文： | 晓华.三氯化砷流速对外延生长砷化镓性质的影响[J].微纳电子技术,1972(1). |
| 作者姓名： | 晓华 |
| 摘 要： | 外延砷化镓的载流子浓度和迁移率随 AsCl_3—Ga—H_2流动系统中的三氯化砷流量而改变。业已用比较大的三氯化砷流量制成了高纯外延层。当三氯化砷流量分别为3.2×10~(-5)克分子/分和1.1×10~(-4)克分子/分时,可分别得到载流子浓度为2×10~(15)厘米~(-3)和2.5×10~(14)厘米~(-3)的外延层。在外延生长以前用砷饱和45克镓,生长参数是:镓温920℃;生长温度735℃;氢气流量250毫升/分。 |
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