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氮分压对CrNx薄膜相结构与力学性能的影响
引用本文:李戈扬,张俊秋,韩增虎,张惠娟.氮分压对CrNx薄膜相结构与力学性能的影响[J].电子显微学报,2002,21(5):629-630.
作者姓名:李戈扬  张俊秋  韩增虎  张惠娟
作者单位:1. 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030
2. 上海交通大学高温材料及高温测试教育部重点实验室,上海,200030
摘    要:CrNx 薄膜具有很高的硬度和耐磨性 ,其高温抗氧化性和耐腐蚀性优良 ,不但可作为耐磨涂层用于工模具和切削工具的表面强化 ,而且在表面防腐和装饰等许多工业领域也有重要用途1] 。同已经得到广泛工业应用的TiN薄膜相比 ,CrNx 薄膜的硬度更高 ,而且具有比TiN更好的耐腐蚀性能2 ] 。CrNx 薄膜溅射产额比较高 ,有利于大批量的工业生产 ,更具有实用价值3 ] 。CrNx 薄膜采用SPC 35 0多功能磁控溅射仪制备。在射频阴极 (r .f.)上安装纯Cr靶 (99 99% )作为溅射材料 ,高速钢基片经 1μm金刚石研磨膏抛光后 ,用丙酮…

关 键 词:氮分压  CrNx薄膜  相结合  力学性能  氮化铬薄膜

Effect of N2 partial pressure on the phase formation and mechanical properties of magnetron sputtered CrNx films
Abstract:
Keywords:
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